EMC實(shí)驗室布局圖-----之二

EMC實(shí)驗室布局圖-----之二

    屏蔽半暗室設有兩個(gè)門(mén)：大門(mén)在圖中左下方，其寬度和調高度按EUT*大尺寸決定，小門(mén)在圖中左邊，高2m x 寬1m。在圖中下方中部和右部各設有一個(gè)信號轉接窗口，分別與控制室、功放室相連。在暗室天花板上設有6個(gè)高帽式燈箱，供暗室照明用。在圖中上邊和下邊的側壁設有進(jìn)風(fēng)口和回風(fēng)口。暗室地板為雙層結構，下層與四壁連成屏蔽殼體，上層為暗室的導電地平面，兩層間隔0.3m，其間敷設電源線(xiàn)、信號線(xiàn)和轉臺。地平面開(kāi)有9個(gè)孔口，設有高頻插座板，供天線(xiàn)射頻電纜連接，并有電源插座。
    圖4為傳導測試室的設備布置圖，圖中右上方放置傳導敏感度（CS)測試系統的兩個(gè)19〞機柜，其左面放置測試工作臺（寬3m，深1m，高0.8m，桌面鋪鋁板或黃銅板，厚2mm，用銅箔與屏蔽室側壁搭接，搭接電阻小于10mΩ）。圖中左邊設有一個(gè)門(mén)，下邊開(kāi)有60cm x 60cm的窗口，窗口四周框邊用20mm厚的鋼板制成，開(kāi)有導電密封襯墊槽，供測量電磁屏蔽材料和部件的屏蔽效能用，也可供測量通風(fēng)截止波導窗的屏蔽效能和電源、信號濾波器的插入損耗和屏蔽效能用。平時(shí)用蓋板蓋上，保持屏蔽室的電磁密封。蓋板與窗口邊框用螺孔為盲孔，深度10mm左右，圖中上方右邊設有一個(gè)信號轉接窗口，與控制室相連，圖中左方和右方頂壁上設有進(jìn)風(fēng)口。

    圖5為控制室內的設備布置平面圖。圖中左側壁開(kāi)一個(gè)門(mén)，高2m寬1m，供進(jìn)出用。右側壁開(kāi)一個(gè)門(mén)，高2m寬1m，供進(jìn)入功放室用。圖中上方右邊放置RS測量系統，其左邊放置EMS系統計算機，上邊右邊放置EMI測量系統，其右邊放置EMI系統計算機，在兩個(gè)計算機之間放置電視監測顯控器和轉臺顯控器、火情自動(dòng)報警顯控器。它們均布置在一個(gè)高0.8m寬2m深0.8m的臺面上，臺面左方放置UPS電源。在EMI系統和EMS系統計算機前各設一個(gè)操作員椅，圖中上邊左角設一個(gè)信號轉接窗與暗室相連，右側壁上方設一個(gè)信號 轉接窗與功放室相連，下方右側設一個(gè)信號轉接窗與傳導測試室相連。左下方和右上方頂壁各設進(jìn)風(fēng)口和回風(fēng)口。

        圖6為功放室內的設備布置平面圖。圖中右側壁放置1GHZ以下的放大器，右上角設一個(gè)信號轉接窗與暗室相通，上方側壁右邊設一個(gè)信號轉換窗與控制室相通。上方側壁左邊有一個(gè)門(mén)與控制室相通。下方側壁和上方頂壁開(kāi)有進(jìn)風(fēng)口和回風(fēng)口。